Verfahren zur Herstellung einer Dünner Schicht und Vorrichtung dafür
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, NEC Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1296364
- Aktenzeichen
- EP01943818
- Anmeldetag
- 25. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 26. März 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/31C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
NEC Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.
19.509 Patente in unserer Datenbank
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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