Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie für 200 nm
EP1304594
Art A3
10. November 2004
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1304594
- Aktenzeichen
- EP02020850
- Anmeldetag
- 18. September 2002
- Veröffentlichung
- 10. November 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Gnatzig, Klaus
Oberkochen, Deutschland
55
Patente gesamt
11
Fachgebiete
4
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Schwerpunkte