Resistmusterverdickungszusammensetzung, Resistmuster, Verfahren zu dessen Herstellung, Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung

EP1315043 Art A1 28. Mai 2003

Anmelder: FUJITSU LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1315043
Aktenzeichen
EP02258135
Anmeldetag
27. November 2002
Veröffentlichung
28. Mai 2003
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00G03F7/40H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
FUJITSU LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik
Vertreten von
Hitching, Peter Matthew Canon Europe Ltd · Inhouse Uxbridge, Großbritannien
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Patente gesamt
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Fachgebiete
8
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Schwerpunkte
Nachrichtentechnik & Telekommunikation Software & Datenverarbeitung Optik & Fototechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung Elektronik & Schaltungstechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
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