Grabenkondensator-Dram-Zelle mit Vertikaltransistor und Verfahren zur Herstellung Derselben
EP1320885
Art A2
25. Juni 2003
Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., International Business Machines Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1320885
- Aktenzeichen
- EP01964532
- Anmeldetag
- 31. August 2001
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8242H01L27/108
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Infineon Technologies North America Corp.
International Business Machines Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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