Photoresistzusammensetzung zur Ausbildung eines Isolationsfilms, Isolationsfilm für ein Organisches Elektrolumineszenzelement und Verfahren zu Seiner Ausbildung

EP1321821 Art A1 25. Juni 2003

Anmelder: Zeon Corporation, NIPPON ZEON CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1321821
Aktenzeichen: EP01936938
Anmeldetag: 8. Juni 2001
Veröffentlichung: 25. Juni 2003
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/022G03F7/004C08G73/10C08L61/06H05B33/14H05B33/12H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Zeon Corporation
NIPPON ZEON CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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