Verfahren zur Herstellung einer Struktur auf einem Wafer
EP1327605
Art A3
17. Mai 2006
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1327605
- Aktenzeichen
- EP02027951
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2002
- Veröffentlichung
- 17. Mai 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81B3/00H01L23/48H01L21/28H01L21/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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