Maskenanordnung zur Negativen Ionenimplantation für Selbstausgerichtete Musterbildung mit Sublithographischer Auflösung zur Erzeugung Einseitiger Vertikaler Bauelemente

EP1342262 Art A2 10. September 2003

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1342262
Aktenzeichen: EP01987148
Anmeldetag: 29. November 2001
Veröffentlichung: 10. September 2003
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/763H01L21/8242H01L21/8234

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Infineon Technologies North America Corp.
International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

9.753 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von