System zur Korrektur der Aberration und der Distortion in der EUV Lithographie

EP1376238 Art A3 8. Juli 2009

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1376238
Aktenzeichen: EP03013978
Anmeldetag: 20. Juni 2003
Veröffentlichung: 8. Juli 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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