Vorrichtung und Verfahren zur Fluorierungsbehandlung von Substraten

EP1380855 Art A3 8. Juni 2005

Anmelder: Showa Denko K.K., NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1380855
Aktenzeichen: EP03015384
Anmeldetag: 8. Juli 2003
Veröffentlichung: 8. Juni 2005
Rechtsraum: EP
IPC: G02B1/02G02B1/12B01L5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Showa Denko K.K.
NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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