Resistmusterverdickungszusammensetzung, Resistmuster, Verfahren zu dessen Herstellung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
EP1385059
Art A1
28. Januar 2004
Anmelder: FUJITSU LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1385059
- Aktenzeichen
- EP03016967
- Anmeldetag
- 25. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 28. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40G03F7/00H01L21/027H01L21/8247H01L27/115G11B5/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJITSU LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
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Kanzlei
Mitscherlich PartmbB
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Mitscherlich wurde 1896 in Berlin gegründet und zog 1951 nach München, direkt in Nähe zu Europäischem Patentamt, DPMA, Bundespatentgericht und der Münchner UPC-Lokalkammer. Sie legt Wert auf Kontinuität und betreut manche Mandate seit Jahrzehnten.
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