Fotomaske mit hoch aufgelöster Identifizierungsmarkierung, sowie Gerät und Methode zur Identifizierung solcher Masken
EP1394610
Art A3
27. Oktober 2004
Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1394610
- Aktenzeichen
- EP03019913
- Anmeldetag
- 2. September 2003
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIKON CORPORATION
Nikon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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