Fotoresist-Entfernungszusammensetzung
EP1400858
Art B1
19. August 2009
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1400858
- Aktenzeichen
- EP02743687
- Anmeldetag
- 21. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 19. August 2009
- Erteilung
- 19. August 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
1.434 Patente in unserer Datenbank