Vorrichtung und Verfahren zur Elektronenstrahllithographie

EP1406291 Art A3 9. November 2005

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1406291
Aktenzeichen
EP03022163
Anmeldetag
30. September 2003
Veröffentlichung
9. November 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/317H01J37/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Hitachi High-Technologies Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen