Vorrichtung und Verfahren zur Elektronenstrahllithographie
EP1406291
Art A3
9. November 2005
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1406291
- Aktenzeichen
- EP03022163
- Anmeldetag
- 30. September 2003
- Veröffentlichung
- 9. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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