Polierelement, Cmp-Poliereinrichtung und Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement

EP1408538 Art A1 14. April 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1408538
Aktenzeichen: EP02743826
Anmeldetag: 4. Juli 2002
Veröffentlichung: 14. April 2004
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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