CVD Verfahren zur Herstellung einer porösen SiOCH-Schicht mit niedriger Dielektrizitätskonstante

EP1464726 Art A3 1. Februar 2006

Anmelder: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1464726
Aktenzeichen: EP04007571
Anmeldetag: 29. März 2004
Veröffentlichung: 1. Februar 2006
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/40C23C16/56H01L21/312H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Air Products

US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.

906 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von