Lithographischer Apparat und Justierverfahren für den Apparat
EP1507173
Art B1
25. Mai 2011
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1507173
- Aktenzeichen
- EP04077235
- Anmeldetag
- 4. August 2004
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2011
- Erteilung
- 25. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
van Os, Lodewijk Hubertus
Veldhoven, Niederlande
43
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Winckels, Johannes Hubertus F
NoneDen Haag