van Os, Lodewijk Hubertus
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Patente
43 gesamt| Patent | |||
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05.06.2019 · ASML Netherlands B.V.
Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.12.2007
Erteilt am 05.06.2019
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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12.09.2018 · ASML Netherlands B.V.
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.05.2002
Erteilt am 12.09.2018
Vertretung
Zusammenfassung
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27.06.2018 · ASML Netherlands B.V.
Positionskalibrierung von Ausrichtungsköpfen in einem Mehrfach-Kopf-Ausrichtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.07.2010
Erteilt am 27.06.2018
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Zusammenfassung
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27.06.2018 · ASML Netherlands B.V.
Niveausensor für ein lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2010
Erteilt am 27.06.2018
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
Zusammenfassung
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04.10.2017 · ASML Netherlands B.V.
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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27.09.2017 · ASML Netherlands B.V.
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.02.2007
Erteilt am 27.09.2017
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Zusammenfassung
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12.07.2017 · ASML Netherlands BV
Verfahren zur Messung des Fokus einer lithographischen Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.11.2008
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Ketelaars, Maarten F.J.M · Den Haag
Zusammenfassung
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11.01.2017 · ASML Netherlands BV
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2008
Erteilt am 11.01.2017
Vertretung
Zusammenfassung
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02.03.2016 · ASML Holding N.V.
Lithographieverfahren und lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.12.2008
Erteilt am 02.03.2016
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Zusammenfassung
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12.08.2015 · ASML Netherlands B.V.
Steuerungssystem, lithografisches Projektionsgerät, Verfahren zur Steuerung einer Stützstruktur und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2008
Erteilt am 12.08.2015
Vertretung
Zusammenfassung
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Vertretene Patentanmelder
Die Patentanmelder, die van Os, Lodewijk Hubertus in den erfassten Patenten am häufigsten vertritt.
| Anmelder | Anzahl Patente |
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| 1. ASML | 29 |
| 2. ASML Netherlands | 16 |
| 3. Carl Zeiss SMT | 1 |
Patente nach Jahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung: so viele Anmeldungen sind für das Jahr insgesamt zu erwarten.