Defektinspektionsmethoden, die das Aufnehmen des Projizierten Maskenabbildes unter Verschiedenen Lithographischen Prozessvariablen Beinhalten

EP1523696 Art B1 21. Dezember 2016

Anmelder: KLA-Tencor Corporation, KLA-Tencor Technologies Corporation 🇺🇸

Details

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

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Optik & Fototechnik

Vertreten von

Keane, Paul Fachtna Dublin, Irland

492

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Fachgebiete

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Schwerpunkte

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung Optik & Fototechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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