System zur Bestrahlung mit geladenen Teilchen und Verfahren zur Anpassung der Bestrahlungsfeldsformvorrichtung
EP1541194
Art B1
13. Februar 2008
Anmelder: Hitachi, Ltd., Hitachi Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1541194
- Aktenzeichen
- EP04028983
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2008
- Erteilung
- 13. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- A61N5/10G21K1/10G21K5/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi, Ltd.
Hitachi Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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