Scheibe mit einer Rückseitendichtung aus Zweischicht-Niedrigtemperatur-Oxyd und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP1543545
Art B1
29. November 2006
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1543545
- Aktenzeichen
- EP03748059
- Anmeldetag
- 18. September 2003
- Veröffentlichung
- 29. November 2006
- Erteilung
- 29. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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