Hoch reine alkalische Ätzenlösung für Silizium-Wafern und alkalisches Ätzverfahren eines Silizium-Wafers
EP1548812
Art B1
22. Juli 2009
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1548812
- Aktenzeichen
- EP04029853
- Anmeldetag
- 16. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 22. Juli 2009
- Erteilung
- 22. Juli 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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