Photoresistbasismaterial, Verfahren zu Seiner Purifikation und Fotoresistzusammensetzungen
EP1553451
Art A1
13. Juli 2005
Anmelder: IDEMITSU KOSAN CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1553451
- Aktenzeichen
- EP03808872
- Anmeldetag
- 1. September 2003
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039C07C39/17C07C69/736C07D309/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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Fachgebiete
Vertreten von
Gille, Struck, Neidlein, Prop, Roos
Düsseldorf, Deutschland
56
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19
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5
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Weitere Vertreter
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Gille Hrabal Partnerschaftsgesellschaft mbB Patentanwälte
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