Silizium-Germanium SOI-Struktur und deren Herstellungsverfahren
EP1553624
Art A1
13. Juli 2005
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1553624
- Aktenzeichen
- EP04029852
- Anmeldetag
- 16. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L21/20H01L21/265H01L21/316H01L29/165H01L29/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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