Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung Vorrichtung

EP1554412 Art B1 14. August 2013

Anmelder: General Plasma, Inc., Applied Process Technologies 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1554412
Aktenzeichen
EP03756819
Anmeldetag
19. September 2003
Veröffentlichung
14. August 2013
Erteilung
14. August 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01J27/14H01J37/32H05H1/48C23C16/513
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
General Plasma, Inc.
Applied Process Technologies
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Kierdorf, Theodor, Dipl.-Ing Bergisch Gladbach, Deutschland
72
Patente gesamt
24
Fachgebiete
4
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Kunststoff- & Polymertechnik Medizintechnik & Gesundheit Maschinenelemente & Fluidtechnik Hochbau & Gebäudetechnik Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
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