Entfernung von Teilchenverunreinigungen auf Strukturiertem Slilicon-/siliziumdioxidunter Verwendung Superkritischer Kohlendioxid-/chemischer Formulierungen
EP1559132
Art A2
3. August 2005
Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC., Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1559132
- Aktenzeichen
- EP03781458
- Anmeldetag
- 29. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 3. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B08B7/00H01L21/00C11D7/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
Advanced Technology Materials, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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ABG Patentes, S.L
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