Als Verbesserte Dielektrische Strukturen Verwendete Nanometrische Zusammensetzungen
EP1563514
Art A1
17. August 2005
Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1563514
- Aktenzeichen
- EP03808139
- Anmeldetag
- 3. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 17. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01B3/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rensselaer Polytechnic Institute
Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.
418 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Wilson Gunn
Wilson Gunn · Manchester
-
Wilson Gunn M'Caw
Wilson Gunn M'Caw · Manchester