Als Verbesserte Dielektrische Strukturen Verwendete Nanometrische Zusammensetzungen

EP1563514 Art A1 17. August 2005

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1563514
Aktenzeichen
EP03808139
Anmeldetag
3. Oktober 2003
Veröffentlichung
17. August 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01B3/30
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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