Überkritisches Kohlendioxid/chemische Formulierung zur Entfernung von Fotolacken
EP1592520
Art A2
9. November 2005
Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1592520
- Aktenzeichen
- EP03779250
- Anmeldetag
- 27. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 9. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B05D1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
458 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
ABG Patentes, S.L
Madrid, Spanien
2.380
Patente gesamt
34
Fachgebiete
37
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ABG Intellectual Property Law, S.L
ABG Intellectual Property Law, S.L · Madrid