Sputtertarget aus Silberlegierung zur Bildung einer Reflektierenden Schicht auf einem Optischen Aufzeichnungsmedium
EP1603129
Art A1
7. Dezember 2005
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1603129
- Aktenzeichen
- EP03712681
- Anmeldetag
- 13. März 2003
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G11B7/26G11B7/24C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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