Ozonnachbehandlung zur Entfernung von Kohlenstoff aus einem Fliessfähigen Oxidschicht
EP1623455
Art A1
8. Februar 2006
Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1623455
- Aktenzeichen
- EP04751417
- Anmeldetag
- 6. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3105H01L21/312C23C16/40C23C16/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
3.194 Patente in unserer Datenbank
Kanzlei
Maguire Boss
Kanzlei in St Ives bei Cambridge mit langjähriger Erfahrung im britischen und europäischen IP-Recht, bewusst zweigeteilt in ein Patent- und Design- sowie ein Marken- und Urheberrechtsteam. Betreut Mandanten von Einzelerfindern bis zu multinationalen Konzernen mit etablierten IP-Portfolios.
1.752
Patente gesamt
2
Patentanwälte
1
Standorte