Anisotropes Ätzverfahren zur Herstellung von Siliziummikrostrukturen
EP1626438
Art B1
20. März 2013
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1626438
- Aktenzeichen
- EP05107289
- Anmeldetag
- 8. August 2005
- Veröffentlichung
- 20. März 2013
- Erteilung
- 20. März 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
1.434 Patente in unserer Datenbank