GaN-Substrat und Halbleitervorrichtung hergestellt durch epitaktisches Wachstum auf das GaN-Substrat

EP1630878 Art B1 18. Oktober 2017

Anmelder: Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation, Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1630878
Aktenzeichen
EP05255182
Anmeldetag
23. August 2005
Veröffentlichung
18. Oktober 2017
Erteilung
18. Oktober 2017
Rechtsraum
EP
IPC
C30B25/18C30B25/20C30B29/40// H01L21/205H01L33/32H01S5/323H01L29/205H01L21/02H01L33/16H01L33/00H01S5/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation
Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba Electronic Devices & Storage

Toshiba Electronic Devices & Storage ist eine Tochtergesellschaft des japanischen Toshiba-Konzerns für Halbleiterbauelemente und Speicherprodukte. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente, ergänzt um Mess- und Prüftechnik sowie Software und Telekommunikation. Die Anmeldungen betreffen überwiegend Halbleiterbauelemente und zugehörige Steuerschaltungen.

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🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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Kanzlei
Marks & Clerk LLP

Marks & Clerk zählt zu den ältesten und international breitesten IP-Kanzleien: 1887 in Birmingham gegründet, ist sie heute mit eigenen Büros auf drei Kontinenten präsent und deckt das gesamte Spektrum des gewerblichen Rechtsschutzes ab.

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