Lithographischer Apparat und Verfahren zur Positionsmessung
EP1645910
Art B1
14. September 2016
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1645910
- Aktenzeichen
- EP05077238
- Anmeldetag
- 30. September 2005
- Veröffentlichung
- 14. September 2016
- Erteilung
- 14. September 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00G01B9/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ras, Michael Adrianus Josephus
Veldhoven, Niederlande
15
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
EP&C
EP&C · Rijswijk
-
Seitz, Holger Fritz Karl
NoneRijswijk
-
Corcoran, Gregory Martin Mason
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Mertens, Hans Victor
NoneAmsterdam