Halbleiterbauelement, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Gas für Plasma-Cvd
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Zeon Corporation, ZEON CORPORATION, OHMI, Tadahiro 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1655772
- Aktenzeichen
- EP04771570
- Anmeldetag
- 12. August 2004
- Veröffentlichung
- 28. September 2011
- Erteilung
- 28. September 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/314
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Zeon Corporation
ZEON CORPORATION
OHMI, Tadahiro - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
2.552 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.