Immersions-Lithographie-Verfahren und Vorrichtung zum Belichten eines Substrats

EP1664934 Art B1 18. Dezember 2013

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1664934
Aktenzeichen: EP04786744
Anmeldetag: 10. September 2004
Veröffentlichung: 18. Dezember 2013
Erteilung: 18. Dezember 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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