Zusammensetzung für Resist und Strahlungsempfindliche Zusammensetzung
EP1666970
Art A1
7. Juni 2006
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1666970
- Aktenzeichen
- EP04772828
- Anmeldetag
- 30. August 2004
- Veröffentlichung
- 7. Juni 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039C07D309/12C07D311/82C07D311/96C07C43/23C07C69/96H01L21/027G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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