Poröser Suszeptor, Verfahren damit zur Beschichtung einer Halbleiterscheibe und Halbleiterscheibe
EP1672094
Art B1
14. November 2007
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1672094
- Aktenzeichen
- EP05026256
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 14. November 2007
- Erteilung
- 14. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/458
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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