Lithografisches Gerät mit zweidimensionaler Ausrichtungsmessanordnung und zweidimensionales Ausrichtungsmessverfahren
EP1674937
Art A3
30. September 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1674937
- Aktenzeichen
- EP05111367
- Anmeldetag
- 28. November 2005
- Veröffentlichung
- 30. September 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Vermeulen, Martijn
NoneRijswijk
-
van Os, Lodewijk Hubertus
NoneVeldhoven
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag