Vorrichtung und Verfahren zum Kontrollieren der Ätztiefe während des abwechselnden Plasmaätzens von Halbleitersubstraten

EP1677338 Art B1 27. Juli 2016

Anmelder: Tegal Corporation, Alcatel Lucent, ALCATEL 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1677338
Aktenzeichen
EP05111324
Anmeldetag
25. November 2005
Veröffentlichung
27. Juli 2016
Erteilung
27. Juli 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Tegal Corporation
Alcatel Lucent
ALCATEL
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Vertreten von
Quantin, Bruno Marie Henri Paris, Frankreich
210
Patente gesamt
31
Fachgebiete
11
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Software & Datenverarbeitung Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Medizintechnik & Gesundheit Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter
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