Polarisiertes Retikel, Fotolithographiesystem und Verfahren zur Erzeugung einer Struktur unter Verwendung eines Polarisierten Retikels in Verbindung mit Polarisiertem Licht
EP1685444
Art A2
2. August 2006
Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1685444
- Aktenzeichen
- EP04811594
- Anmeldetag
- 18. November 2004
- Veröffentlichung
- 2. August 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Kanzlei
Maguire Boss
Kanzlei in St Ives bei Cambridge mit langjähriger Erfahrung im britischen und europäischen IP-Recht, bewusst zweigeteilt in ein Patent- und Design- sowie ein Marken- und Urheberrechtsteam. Betreut Mandanten von Einzelerfindern bis zu multinationalen Konzernen mit etablierten IP-Portfolios.
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