Polierkissenflächenformmessgerät, Verfahren zur Verwendung eines Polierkissenflächenformmessgeräts, Verfahren zum Messen des Kegelscheitelwinkels eines Polierkissens, Verfahren zum Messen der Nuttiefe eines Polierkissens, Cmp-Polierer und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
EP1710048
Art B1
12. Juni 2013
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1710048
- Aktenzeichen
- EP05704079
- Anmeldetag
- 19. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2013
- Erteilung
- 12. Juni 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24B37/26B24B49/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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