Verfahren zum Herstellen eines Kondensators mit lokal erhöhter dielektrischer Konstante und eines Zwischendielektrikums mit niedriger dielektrischer Konstante

EP1711958 Art B1 27. Juli 2011

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1711958
Aktenzeichen: EP04802977
Anmeldetag: 21. Dezember 2004
Veröffentlichung: 27. Juli 2011
Erteilung: 27. Juli 2011
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/3105H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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