Zusammensetzung und Prozess zur Nach-Ätz-Entfernung von Fotoresist Und/oder Opfer-Antireflexmaterial, das auf einem Substrat Abgelagert Ist

EP1730600 Art B1 6. Januar 2016

Anmelder: ENTEGRIS INC., ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

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🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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Medizintechnik & Gesundheit Organische Chemie Pharma & Biotechnologie Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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