Zusammensetzung und Prozess zur Nach-Ätz-Entfernung von Fotoresist Und/oder Opfer-Antireflexmaterial, das auf einem Substrat Abgelagert Ist
EP1730600
Art B1
6. Januar 2016
Anmelder: ENTEGRIS INC., ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1730600
- Aktenzeichen
- EP05724288
- Anmeldetag
- 2. März 2005
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2016
- Erteilung
- 6. Januar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/32G03F7/42C11D3/04C11D3/30C11D3/39C11D7/06C11D11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ENTEGRIS INC.
ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
1.106 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
458 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
ABG Patentes, S.L
Madrid, Spanien
2.380
Patente gesamt
34
Fachgebiete
37
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ABG Intellectual Property Law, S.L
ABG Intellectual Property Law, S.L · Madrid