Verfahren zum Behandeln eines Substrats
EP1730770
Art B1
23. September 2015
Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1730770
- Aktenzeichen
- EP05722845
- Anmeldetag
- 8. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 23. September 2015
- Erteilung
- 23. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Kanzlei
Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
38.880
Patente gesamt
25
Patentanwälte
2
Standorte
Weitere Vertreter
-
Andréasson, Ivar
NoneHagfors