Zusammensetzung zur Entfernung von Antireflexunterschichten bei Strukturierten Ionenimplantierten Fotoresistscheiben
EP1733001
Art A2
20. Dezember 2006
Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1733001
- Aktenzeichen
- EP05727221
- Anmeldetag
- 14. März 2005
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311G03F7/42C11D3/00C11D11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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