Material zur Bildung eines Resistschutzfilms für das Eintauchbelichtungsverfahren und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters unter Verwendung des Schutzfilms

EP1741730 Art B1 12. Mai 2010

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1741730
Aktenzeichen
EP05734725
Anmeldetag
25. April 2005
Veröffentlichung
12. Mai 2010
Erteilung
12. Mai 2010
Rechtsraum
EP
IPC
C08F20/10C08F22/00C08F36/16G03F7/11H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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