Resistmusterverdickungszusammensetzung, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters, und Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
EP1757988
Art A1
28. Februar 2007
Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1757988
- Aktenzeichen
- EP05026737
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 28. Februar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujitsu Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
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Mitscherlich PartmbB
München, Deutschland
Mitscherlich wurde 1896 in Berlin gegründet und zog 1951 nach München, direkt in Nähe zu Europäischem Patentamt, DPMA, Bundespatentgericht und der Münchner UPC-Lokalkammer. Sie legt Wert auf Kontinuität und betreut manche Mandate seit Jahrzehnten.
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