Verfahren zum Herstellen von auf Nitrid Basierenden Transistoren mit einer Kappenschicht und einem Ausgesparten Gate

EP1771876 Art B1 26. September 2018

Anmelder: Cree, Inc., CREE, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1771876
Aktenzeichen
EP05735706
Anmeldetag
30. März 2005
Veröffentlichung
26. September 2018
Erteilung
26. September 2018
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/778H01L21/338// H01L29/417H01L29/423H01L29/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Cree, Inc.
CREE, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cree

US-amerikanischer Halbleiterhersteller, bekannt für LED- und Leistungshalbleitertechnik auf Siliziumkarbid-Basis. Das Unternehmen benannte sich 2021 in Wolfspeed um.

1.232 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen