Euv-Lichtquelle, Euv-Belichtungssystem und Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen

EP1775755 Art B1 26. September 2012

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1775755
Aktenzeichen: EP05755680
Anmeldetag: 22. Juni 2005
Veröffentlichung: 26. September 2012
Erteilung: 26. September 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/027G03F7/20G21K5/02G21K5/08H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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