Euv-Lichtquelle, Euv-Belichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
EP1775756
Art B1
21. September 2011
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1775756
- Aktenzeichen
- EP05755689
- Anmeldetag
- 22. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 21. September 2011
- Erteilung
- 21. September 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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