Euv-Lichtquelle, Euv-Belichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung

EP1775756 Art B1 21. September 2011

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1775756
Aktenzeichen
EP05755689
Anmeldetag
22. Juni 2005
Veröffentlichung
21. September 2011
Erteilung
21. September 2011
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H05G2/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NIKON CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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