Sputtertarget, transparentes und leitendes Oxid sowie Verfahren zur Herstellung des Sputtertargets
EP1777321
Art A1
25. April 2007
Anmelder: IDEMITSU KOSAN CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1777321
- Aktenzeichen
- EP06122640
- Anmeldetag
- 22. November 2000
- Veröffentlichung
- 25. April 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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